電子光學(xué)儀器
儀器名稱：掃描電鏡（帶能譜）
生產(chǎn)廠家：日本電子JEOL
規(guī)格型號(hào)：5600LV
技術(shù)指標(biāo)：SEM：高真空分辨率3.5nm，低真空分辨率4.5nm;SEM：放大倍數(shù)范圍50-200,000；
測(cè)試領(lǐng)域：高真空、低真空材料形貌、結(jié)構(gòu)、成分、缺陷分析
聯(lián)系人：董祥 13577068859
校區(qū)：蓮華
單位：國(guó)家工種程中心
儀器名稱：掃描電鏡
生產(chǎn)廠家：荷蘭飛利浦
規(guī)格型號(hào)：XL30ESEM-TMP
技術(shù)指標(biāo)：放大倍數(shù)：20-100000
測(cè)試領(lǐng)域：固體材料的形貌和成分分析
聯(lián)系人：陳亮維 13170634199
校區(qū)：蓮華
單位：材料學(xué)院
儀器名稱：高分辨場(chǎng)發(fā)射透電子顯微鏡(德貸設(shè)備)
生產(chǎn)廠家：荷蘭FEI公司
規(guī)格型號(hào)：Tecnai G2 TF30
技術(shù)指標(biāo)：點(diǎn)分辨率：0.205 nm, 線分辨率：0.102 nm, 加速電壓：300 kV, 放大倍數(shù)：2000 X ～ 1,000,000 X
測(cè)試領(lǐng)域：用于化學(xué)、物理學(xué)、材料科學(xué)、地質(zhì)學(xué)、生物學(xué)、醫(yī)學(xué)、高分子、環(huán)境科學(xué)等領(lǐng)域的科學(xué)研究。本中心的TEM設(shè)備主要面向金屬、半導(dǎo)體、陶瓷、納米材料、功能材料、催化劑的研究和技術(shù)開發(fā)，用于觀察分析以上固體物質(zhì)和材料的顯微形貌、晶體結(jié)構(gòu)和相組織，及其相應(yīng)微區(qū)化學(xué)成分的定性定量分析
聯(lián)系人：王劍華 0871-65115227 0871-65110975
校區(qū)：蓮華
單位：測(cè)試中心
儀器名稱：鎢燈絲掃描電子顯微鏡
生產(chǎn)廠家：捷克Tescan公司
規(guī)格型號(hào)：VEGA-3SBH
技術(shù)指標(biāo)：電子槍:鎢燈絲；二次電子分辨率:30KV下3.0nm; 3KV下8.0nm;背散射電子分辨率：30KV下3.5nm；加速電壓:200V～30KV；探針電流﹕1pA至2μA
測(cè)試領(lǐng)域：用于化學(xué)、物理學(xué)、材料科學(xué)、地質(zhì)學(xué)、生物學(xué)、醫(yī)學(xué)、環(huán)境科學(xué)等領(lǐng)域的科學(xué)研究。本設(shè)備主要面向金屬、半導(dǎo)體、陶瓷、納米材料、功能材料、催化劑的研究和技術(shù)開發(fā)，用于觀察分析以上固體物質(zhì)和材料的表面形貌和組織
聯(lián)系人：周烈興 0871-65115227 0871-65110975
校區(qū)：蓮華
單位：測(cè)試中心
儀器名稱：X光電子能譜儀（俄歇）(德貸設(shè)備)
生產(chǎn)廠家：日本ULVAC-PHI公司
規(guī)格型號(hào)：PHI5000VersaProbeⅡ
技術(shù)指標(biāo)：X射線束斑≤10μm能量分辨率：半高寬FWHM≤ 0.5eV（Ag3d5/2峰）
測(cè)試領(lǐng)域：應(yīng)用于金屬材料、無(wú)機(jī)材料、納米材料、半導(dǎo)體材料、催化劑、生物功能材料、環(huán)境材料等材料中所涉及的表面（5-75）元素成分定性定量的分析，表面化學(xué)狀態(tài)和電子結(jié)構(gòu)的分析
聯(lián)系人：楊喜昆 137078718731 閔春剛 15559771773 0871-65110975
校區(qū)：蓮華
單位：測(cè)試中心
儀器名稱：掃描電鏡
生產(chǎn)廠家：捷克泰思肯
規(guī)格型號(hào)：VEGA 3 SBU
技術(shù)指標(biāo)：鎢燈絲帶能譜
測(cè)試領(lǐng)域：形貌、元素分析
聯(lián)系人：陳卓 13700634168 司甜 15912406953
校區(qū)：呈貢
單位：化工學(xué)院